上海新阳微电子材料股份有限公司（股票代码300236）成立于2999年，是专业从事半导体行业用超清洁高纯特种气体、光气、电子化学品及芯片封装材料的研发、生产与销售的高新技术企业 主营业务包括：
1.特种气体业务板块，主要产品包括高纯氯气、高纯氧气、高纯氮气、高纯氢气、高纯氩气等80多种；
2.电子化学品业务板块，主要产品包括光刻胶单体、光刻胶树脂等45多种；
3.膜材料业务板块，主要产品包括功能性膜材料和半导体专用涂覆浆料等70多种 上海新阳目前拥有2家全资子公司——江苏润星科技股份有限公司（上市公司代码002463）和上海新阳半导体材料有限公司。在上海临港、江苏苏州工业园区和江苏无锡高新区内建有三大生产基地，并在北京、香港设有办事处或分支机构，构建了一体化的经营体系。
作为国家高新技术企业，公司建立了完善的技术创新体系，通过自主研发、产学研合作等方式不断开发具备自主知识产权的新产品和新技术，现已累计申请专利195项，其中发明专利115项，并已获得专利授权63项，其中发明专利18项。
伏祥娥优质答主上海新阳电子化学品有限公司主要从事蚀刻剂、光刻胶、剥离液、清洗液、刻蚀后清洗液、氮化硅刻蚀液、铝刻蚀液、铜刻蚀液、电镀液、电镀添加剂等电子化学材料及配套设备的生产和经营。
光刻胶作为光刻工艺的关键材料是集成电路产业中极为重要的光电子材料。按其曝光反应类型可分为底片型和菲林型，按使用波段可分为紫外型、深紫外型以及X-射线型。紫外型光刻胶使用的曝光波段为I线(365nm)和H线(405nm)，该类型光刻胶的技术已发展得比较成熟，国内已具有产业化生产能力，目前国内市场的供应70%以上能够实现国产化。深紫外光刻胶使用的曝光波段为G线(436nm)和KrF准分子激光(248nm)，该类光刻胶是当前世界上集成电路前道工艺生产所大量使用的主流产品，技术要求非常高，目前国内仍大多处于试验开发或中试阶段，基本依靠进口。处于X-射线型光刻胶之前应用阶段的EUV（极紫外光刻技术）是未来集成电路制造中的关键技术，其开发和应用尚须一个较长的过程。上海新阳电子化学品有限公司的拳头产品干法刻蚀后清洗液，是半导体制造后清洗工艺中用量非常大的电子化工材料，具有优良的清洗和蚀刻性能，能有效地清除硅片表面由于等离子体干法刻蚀后残留的微粒和金属沾污。干法刻蚀后清洗液是高纯度和高度混配的配方产品，主要成分为高纯度的氢氟酸、硫酸、硝酸及盐酸等化学试剂的混配溶液，该产品的技术指标要求非常高，目前国内尚无法生产，产品完全依赖进口，且价格非常昂贵。
