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6月13日，浙江杭州举行2021年“首台（套）重大技术装备”发布会暨项目签约仪式。其中，我国首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备宣布研制成功意味着什么？对国内芯片行业有何影响？ 这套设备由来自江苏的苏州纳米技术与纳米仿生研究所研制。负责人孙立宁当日在新闻发布会上说，它具有分辨力高、成像速率高、可适应不同应用需求的特点。以45nm制程半导体器件为例，每批次加工时间小于1分钟，能实现超高精密单原子级结构器件的加工。
虽然该所此前已公布多项核心技术成果，但此次发布的这台设备的成熟度与以往有较大突破，且实现了国产首台套的重大突破。该所方面说，由于制造芯片的关键工艺中的光罩可用性不高，导致当前中国大陆芯片制造业“卡脖子”问题一直难以解决。这次新装备的成功，或对国内半导体产业有一定的推动作用。 但业界也认为，尽管这项技术的原理与光刻技术相当，但是由于目前光源方面的限制，它的应用范围可能并不会太广泛。而且研发一套全新的装备，从技术到市场，需要一个过程，短期无法替代现有生产设备。
不过，该技术如果进一步发展成熟并商用化，有望打破国外技术垄断，填补国内空白。 记者从新闻发布会现场了解到，今年浙江省首批“关键核心技术产品清单”正式发布，这些项目将实施攻关，为打造全球先进制造业基地提供强劲动力。 此次发布的52项“关键核心技术产品清单”涉及信息通信、智能传感、集成电路、生物医药等十大领域。以电子信息领域的项目来看，除了上述超分辨光刻装备外，还有柔性基底光子晶体阵列、大型存储器芯片、车用激光雷达系统、毫米波射频集成电路等。 这些项目的研究单位涉及浙江大学、中国计量大学、杭州电子科技大学、浙江工业大学等诸多高校及科研院所。